Króm lemez

A vákuumbevonat, a félvezetőgyártás és a nagy teljesítményű ötvözetek kutatása és fejlesztése terén az anyagok tisztasága és síksága közvetlenül meghatározza a végtermékek filmképződését. A krómlemez 1907 fokos olvadáspontjával és kiváló korrózióállóságával pótolhatatlan „stratégiai minőségű” fémhordozóvá válik a globális csúcstechnológiai iparban.

1. Alapteljesítmény: elpusztíthatatlan fizikai gének

A króm (Cr) nemcsak elbűvölő ezüstös{0}}fehér fényt ad az anyagnak, hanem mikroszinten erőteljes védelmi rendszert is épít:

Kiváló oxidációállóság: A felület szobahőmérsékleten gyorsan sűrű passzivációs filmet képez, amely még magas hőmérsékleten is hatékonyan ellenáll az oxidációnak és a sav{0}}bázis eróziónak.

Magas keménység és kopásállóság: A Mohs-féle keménység eléri a 8,5-öt, így fizikai mosás közben is sima felületű lehet.

Kiváló vákuumstabilitás: Az extrém alacsony gőznyomás biztosítja, hogy nem szabadul fel szennyező gázok az ultra-nagy vákuumkamrában.

2. Kémiai összetétel és műszaki mutatók (Ultra-High Purity)

Fejlett elektrolitikus finomítási és vákuumolvasztási eljárásokat alkalmazunk, hogy minimálisra csökkentsük az olyan káros szennyeződéseket, mint az oxigén, a nitrogén és a hidrogén.

3. Lean folyamat: a sűrű blanktól a precíziós lemezig

Az egyes krómlemezek születése szigorú folyamaton, zárt körön ment keresztül:

Nagynyomású izosztatikus préselés (HIP): Távolítsa el a mikroszkopikus pórusokat a tuskó belsejében, hogy biztosítsa a sűrű és egyenletes szerveződést.

Több-menetes meleg/hideghengerlés: Kiváló szemcseorientáció és felületi síkság a precíz redukcióvezérlésnek köszönhetően.

Vákuumos feszültségmentesítés: Az egyedülálló hőkezelési eljárás biztosítja, hogy a lemez ne vetemedjen meg a későbbi megmunkálás vagy porlasztás során.

4. Termékleírások és alapvető paraméterek (testreszabható)

A mérettámogatás teljes skáláját biztosítjuk a miniatűr kísérleti lapoktól a nagy{0}}területű ipari célokig:

Vastagság: 1,0 mm-20 mm (Testreszabott kérés vagy rajz szerint)

Szélesség (Width): 5-200mm, Akár 500 mm

Hossz: 1500 mm-ig

Laposság: kevesebb, mint 0,2 mm

Tűrés: ± 0,1 mm-en belül (maximum ± 0,05 mm precíziós minőség esetén)

5. Felületkezelés: a tükörfelület és a funkció harmóniája és egysége

Ground: Megszünteti a gördülő textúrát a felületen, hogy egyenletes fizikai felületet biztosítson.

Polírozott: A felületi minőség elérheti az Ra 0,4 um vagy nagyobb értéket, azonban fennáll az ívképződés veszélye.

Ultrahangos tisztítás: 10 000 -szintű poros-fás helyiségben végezzük el, hogy eltávolítsuk az összes vágófolyadék-maradványt, és a dobozból kivesszük a használatra készen-.

6. Alaperő: Miért részesítik előnyben a vezető mérnökök a krómlemezeinket?

Szemcsefinomítási technológia: Az általunk gyártott krómlemezek egyenletesen finom mikroszkopikus szemcsékkel rendelkeznek (átlagos részecskeméret 100 um vagy annál kisebb), ami egyenletesebb filmképződést jelent, ha porlasztási célpontként használjuk.

Rendkívül magas kötési kompatibilitás: Az optimalizált hátkezelési eljárásnak köszönhetően az indium hegesztési kötési aránya a réz hátlappal akár 98%-ot is elérhet.

Teljes életciklus nyomon követhetőség: Minden tételhez tartozik egy teljes MTC (anyagjelentés) és az ultrahangos hibaészlelési jelentés.

7. Alkalmazási területek: A legmodernebb-ipari tervrajzok lefedése

PVD/CVD porlasztásos célok: gátrétegek, kapuvonalak gyártása síkképernyős kijelzőkben (FPD).

Dekoratív bevonat: A fogyasztói elektronikai cikkekhez kiváló{0}}minőségű hardver, amely nem-fakuló ezüst kopásálló-bevonatot biztosít.

Félvezető eszközök: kulcsfontosságú filmrétegek gyártása fotó{0}}maszkokhoz.

Szuper-ötvözetkutatás: Alapvető adalékanyagként nagy teljesítményű rozsdamentes acélok és szuper-ötvözetek kutatásához és fejlesztéséhez-.